시스템반도체 소자회로설계를 반영하는 Photo Mask 제조공정, 소자회로 성능 목표를 구현하기 위한 다양한 회로배선구조의 소자제조공정을 연구·개발한다.
수행직무
시스템반도체소자 회로설계 사양에 따라 다양한 재료와 배선선폭을 가지는 Photo Mask를 사진현상공정연구원과 함께 연구·개발한다. 고객이 요구하는 소자회로 성능 목표를 기준으로 사진현상, 식각, 이온주입, 확산, 화학기상증착, 금속막증착, 세정, 연마 및 계측검사 공정을 조합한 소자제조공정(Process Integration)을 단위공정연구원과 공동으로 연구·개발한다. Logic 소자의 Isolation, Gate, Multi Interconnect 등 회로배선을 다양한 소재, 구조를 이용하여 연구·개발한다. 이후 소자 조립 및 검사 공정을 통해 전기적, 구조적 특성의 유효성 여부를 검증한다.
부가직업정보
정규교육 : 16년 초과(대학원 이상)
숙련기간 : 2년 초과 ~ 4년 이하
직무기능 : 자료 (종합) / 사람 (말하기-신호) / 사물 (정밀작업)
작업강도 : 가벼운 작업
육체활동 :
-
작업장소 : 실내
작업환경 :
위험내재
유사명칭 : 반도체소자공정연구원
관련직업 : AP소자공정연구원, Modem소자공정연구원, DDI소자공정연구원, CIS소자공정연구원, Logic소자공정연구원, ASIC소자공정연구원 등