메모리반도체소자 회로설계 사양에 따라 다양한 재료와 배선선폭을 가지는 Photo Mask를 사진현상공정연구원과 함께 연구·개발한다. 고객이 요구하는 소자회로 성능목표를 기준으로 사진현상, 식각, 이온주입, 확산, 화학기상증착, 금속막증착, 세정, 연마 및 계측검사공정을 조합한 소자제조공정(Process Integration)을 단위공정연구원과 공동으로 연구·개발한다. DRAM 소자의 Isolation, Gate, Bit Line, Capacitor, Interconnect 등 회로배선을 다양한 소재, 구조를 이용하여 연구·개발한다. 이후 메모리반도체소자 조립 및 검사공정을 통해 소자의 전기적, 구조적 특성의 유효성 여부를 검증한다.

• 정규교육 : 16년 초과(대학원 이상)
• 숙련기간 : 2년 초과 ~ 4년 이하
• 직무기능 : 자료 (종합) / 사람 (말하기-신호) / 사물 (정밀작업)
• 작업강도 : 가벼운 작업
• 육체활동 : -
• 작업장소 : 실내
• 작업환경 : 위험내재
• 유사명칭 : 반도체소자공정연구원
• 관련직업 : DRAM소자공정연구원, Flash소자공정연구원, SRAM소자공정연구원, 차세대메모리반도체소자공정연구원
• 자격/면허 : -
• 고용직업분류 : [1532]전자공학 기술자 및 연구원
• 표준직업분류 : [2342]전자공학 기술자 및 연구원
• 표준산업분류 : [C261]반도체 제조업
• 조사연도 : 2019
• 비고 : -